安费诺连接器用于深紫外区域，高水平的紫外线辐射会导致
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Amphenol安费诺连接器子公司Polymicro改进了FDP光纤用于深紫外应用
2019年4月22日，伊利诺伊州莱尔
FDP光纤衰减图
伊利诺伊州莱尔——2019年4月22日—— Amphenol安费诺连接器的子公司Polymicro Technologies最近宣布对其FDP光纤进行改进。最新的增强提高了光纤在深紫外应用(190 - 325纳米)的日晒性。
“光纤FDP的引入彻底改变了UV的应用。我们很高兴为客户带来增强的FDP纤维，具有更好的质量，以抵御紫外线的暴露，”Teodor Tichindelean说，全球产品经理，Polymicro技术。
多微硅芯光纤FDP具有超高的紫外透射率和超低的紫外日晒率，具有优异的抗辐射性能。FDP光纤工作在190纳米以下，具有优良的抗深紫外日晒特性，已成为深紫外地区应用的首选光纤。新的FDP光纤提供了更大的耐日晒性，以维持更长时间的传输，同时尽量减少对光纤的损伤。
对于应用于深紫外区域，高水平的紫外线辐射会导致光纤和传输性能恶化。纤维通常在数小时后失去传输能力。Tichindelean补充说:“与以前的版本相比，改进后的FDP光纤在初始退化后提供了大约10%的光输出。”“对于Polymicro的客户来说，这意味着更好的光发射和更长的产品寿命。”
提供尺寸控制和严格的公差，多微FDP光纤提供了一系列的选择，包括定制的核心尺寸，涂层，缓冲器和组件。Amphenol安费诺连接器和Polymicro设备通过ISO 9001、13485和14001认证。有关Polymicro解决方案的更多信息，请访问欲了解更多有关Amphenol安费诺连接器其他产品和行业解决方案的信息，请登录我们的电子新闻通讯Amphenol安费诺连接器
