上海微电子拿下1.1亿光刻机大单
日前，来自中国政府采购网的公告显示，上海微电子装备（集团）股份有限公司成功中标一项金额接近1.1亿元的光刻机采购项目。这一消息不仅标志着国产高端半导体装备在实际应用中取得实质性进展，也再次点燃了资本市场对本土产业链自主可控能力的信心。
据公示信息显示，此次中标的设备为一台SSC800/10型步进扫描式光刻机，成交价格为109,999,850元。该设备将用于支持国内某重点科研或制造单位的产线建设，其交付与部署有望进一步提升我国在成熟制程领域的制造能力。
作为国内光刻设备领域的领军企业，上海微电子自2002年成立以来，长期聚焦于半导体及泛半导体装备的研发与产业化，目前已具备覆盖90纳米及以下工艺节点的技术能力。
上海微电子官方网站显示，公司目前拥有5大光刻设备系列：SSX600系列光刻机、SSB500系列光刻机、SSB300系列步进光刻机、SSB200小Mask系列曝光机、SSB200大Mask系列曝光机。
在外部技术封锁加剧、全球供应链不确定性上升的背景下，国内晶圆厂对本土设备的验证和导入节奏明显加快。分析人士指出，随着成熟制程产能持续扩张，以及AI、汽车电子等下游应用对芯片需求的增长，国产光刻设备正迎来从“能用”向“好用”过渡的关键窗口期。
作为上海微电子的重要参股方之一，张江高科股价在公告发布次日显著走强，盘中涨幅一度逼近涨停，反映出投资者对国产核心设备突破的高度期待。
与此同时，行业技术路线也在稳步推进。除本次中标的设备外，业内传闻上海微电子的193nm ArF浸没式光刻机已进入中芯国际等头部代工厂的内部测试阶段，目标直指28纳米工艺节点。而在更前沿的EUV领域，尽管仍面临光源、光学系统等多重技术壁垒，但相关原型机研发工作已取得阶段性成果。
政策层面的支持同样不容忽视。近期，上海市政府出台多项举措，强化本地集成电路产业生态，包括加强算力基础设施布局、鼓励关键技术攻关，并对取得重大资质的企业给予高额奖励。这些措施为设备厂商提供了良好的发展环境。
当然，挑战依然存在。光刻机作为半导体制造中最复杂、最精密的设备之一，其性能稳定性、良率控制及与整条产线的协同能力，仍需在长期运行中不断验证。但此次1.1亿元项目的落地，无疑是一个积极信号——它不仅是一笔商业订单，更是国产装备获得用户信任的有力证明。
未来，随着更多类似项目的推进，中国半导体设备产业有望在全球价值链中占据更加坚实的位置。而上海微电子的这一步，或许正是通往更高技术水平与更大市场份额的起点。
